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  • 什么是PVD,PVD和电镀有区别吗,水镀,真空镀,溅镀、涂镀区别
  • 本站编辑:海盐鑫中岳电子科技有限公司发布日期:2020-05-18 09:24 浏览次数:

什么是PVD 技术(物理气相沉积Physical Vapor Deposition) :

PVD-物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。

PVD基本方法:真空蒸镀、溅镀 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

PVD 技术是目前国际上科技含量高且被广泛应用的离子镀膜技术,它具有 镀膜层致密均匀、附着力强、镀性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点(此章节主要阐述PVD 技术在不锈钢及铜料表面电镀加硬膜HC 的应用),是表面处理工程领域较佳的选择。

PVD 本身镀膜过程是高温状态下,等离子场下的辉光反应,亦是一个高净化处理过程;镀层的主要原材料是以钛金属为主,钛是金属中最与人体皮肤具亲和性能的,使得PVD 产品本身具备纯净的环保性能。

PVD 可以做出成千上万种颜色,甚至可以说自然界有的颜色,差不多都可以用PVD的方法做出来。如金色系列:欧洲金(2N18 及1N14)、日本金(GY01)、中国金(GY2N) 等;咖啡系列:深咖、浅咖、中咖等;黑色系列:枪色、灰色、超黑色等;时尚系列:太空色、香摈色、卡其色等。。。

水镀

一般的电镀(冷镀)也就是指水镀,是最常见的电镀方式,是一个电化学的过程,利用正负电极,加以电流在镀槽中进行,镀金,镀银,镀镍,镀铬,镀镉等,电镀液污染很大。水镀还要分为电镀和化学镀两种,电镀一般作为装饰性表面,因为有高亮度,化学镀的表面比较灰暗,一般作为防腐蚀涂层。电镀时,镀层金属做阳极,被氧化成阳离子进入电镀液;待镀的金属制品做阴极,镀层金属的阳离子在金属表面被还原形成镀层.为排除其它阳离子的干扰,且使镀层均匀、牢固,需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液,以保持镀层金属阳离子的浓度不变。

真空蒸镀、溅镀、离子镀

真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层。

真空蒸镀法是在高真空下为金属加热,使其熔融、蒸发,冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法,镀层厚度为0.8-1.2um。将成形品表面的微小凹凸部分填平,以获得如镜面一样的表面,无任是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀,还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时,都必须进行底面涂布处理。

溅镀通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电(glow discharge)产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子轰出,沉积在塑胶基材上。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀。

离子镀是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。

涂镀

涂镀,又称为刷镀或无槽电镀,是在金属工件表面局部快速电化学沉积金属的技术,其在原理和本质都属于电化学加工中电镀工艺的范筹。是和电解相反,利用电镀液中金属离子在电场的作用下,镀覆沉积到阴极上去的加工过程。


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